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Spezielle hydrophobe Kieselsäuren
und hydrophobe Metalloxide

AEROSIL® Produktgruppen

 

Spezielle hydrophobe Kieselsäuren und hydrophobe Metalloxide
AEROSIL® Typen BET Oberfläche
[m2/g]		 pH Kohlenstoff-Gehalt
[Gew.%]		 Chemische Zusammen-setzung
AEROSIL® RY 50 30 ± 15 4,5‑7,5 3,0‑4,0 SiO2
AEROSIL® NY 50 30 ± 10 5,0-6,0 2,5-3,5 SiO2
AEROSIL® RY 200 100 ± 20 4,0‑7,0 3,5-5,5 SiO2
AEROSIL® RY 200 S 80 ± 15 4,5‑6,5 3,5-4,5 SiO2
AEROSIL® RX 50 35 ± 10 6,0‑8,0 0,5-0,75 SiO2
AEROSIL® NAX 50 40 ± 10 6,0‑8,0 0,45‑0,85 SiO2
AEROSIL® RX 200 140 ± 25 5,5‑8,5 1,5-3,0 SiO2
AEROSIL® RX 300 210 ± 20 6,0‑8,0 3,0-5,0 SiO2
AEROSIL® R 504 150 ± 25 8,5‑10,5 2,0-4,0 SiO2
AEROXIDE® TiO2 T805 45 ± 10 3,0‑4,0 2,7-3,7 TiO2
AEROXIDE® Alu C 805 100 ± 15 3,0‑4,5 3,5-4,5 Al2O3
AEROXIDE® TiO2 NKT90 50 - 75 3,0‑4,0 2,0-4,0 TiO2
AEROXIDE® STX 501 20 - 45 7,0‑10,0 0,2-1,0 TiO2/ SiO2
AEROXIDE® STX 801 40 - 70 6,0‑8,5 0,5-2,0 TiO2/ SiO2

Es handelt sich um unverbindliche Richtwerte.
Auf Wunsch können Sonderprodukte entwickelt und geliefert werden.

 

In Abhängigkeit von den jeweiligen Anwendungen werden an pyrogene Oxide von den unterschiedlichen Industrien besondere Anforderungen bezüglich spezieller Produkteigenschaften gestellt. Um diese hohen technischen Anforderungen erfüllen zu können, ist die Kombination unterschiedlicher Ausgangsmaterialien (SiO2, Al2O3 oder TiO2) und Nachbehandlungsagenzien (sowie der Einsatz verschiedener Herstellverfahren) unbedingt erforderlich. Mit den hier aufgeführten AEROSIL® R- und N-Typen kann gezielt die elektrostatische Aufladbarkeit, das Fließverhalten und die Stabilität von Tonern für Kopierer und Laserdrucker eingestellt werden. AEROXIDE® TiO2 T 805, ein hochwirksamer UV-Filter, zeichnet sich durch besonders gute Dispergierbarkeit und geringe Feuchtigkeitsaufnahme aus. AEROXIDE® Alu C 805 ist besonders für die Anwendung in Pulverlacken zu empfehlen, in denen Feuchtigkeit ein Problem darstellt.

Positive Effekte:

  • Steuerung der elektrostatischen Aufladbarkeit von Tonern
  • Free Flow bei Toneranwendungen
  • Verbesserung der Lagerstabliltät bei Tonern
  • Erhöhung der Temperaturstabilität in Silicon-Elastomeren
 
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