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化学机械抛光(CMP)


化学机械抛光(CMP)是制造集成电路的关键基础技术。赢创致力于为半导体行业提供化学机械抛光的创新解决方案,是全球首选的合作伙伴。


Zeichnung und Hände

全球电子级产品的制造商

赢创工业集团是全球最大的气相法金属氧化物供应商,为半导体行业提供用于化学机械抛光的研磨颗粒。随着电子级产品的生产扩展至所有的增长市场,赢创凭借当地资源可为您开发出所需的解决方案。凭借十多年来服务CMP行业的经验,我们做到了真正了解客户的需求。

无论您的目标是要改善现有的产品质量和生产效率,还是针对下一代金属CMP浆料开发产品,赢创均可凭借所具备的相应能力和经验,为半导体行业客户提供合乎严格要求的AEROSIL® 和AEROXIDE®产品。

新产品开发

赢创的AEROSIL® 气相法二氧化硅和 AEROXIDE®气相法金属氧化物为客户提供广泛的纳米结构产品组合。我们的气相法金属氧化物,金属混合氧化物,和经表面处理的金属氧化物能够帮助我们的客户与国际半导体技术发展同盟(ITRS)保持同步。 我们主要关注研磨剂颗粒。依据您的偏好,我们可以以粉末或母料分散液的形式为您提供产品,这些产品都可以很方便的应用到CMP浆料中。

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